Sputtering targets

Vår spanska leverantör specialtillverkar ’sputtering targets’ – en platta från vilken man exciterar atomer, för användning inom PVD (physical vapour depositioning). PVD är en metod för beläggning av material och används inom många områden, främst verktyg för bearbetning men även solceller, Arkitektoniskt glas, halvledare, inom fordonsindustri, medicinsk industri och optiska applikationer. Vilken kvalitet och vilka egenskaper man kan uppnå med PVD beror på kollisionsvinkel, energi och massa.

Vi erbjuder skräddarsydda sputtering targets för ditt ändamål i en mängd olika material, bland andra AZO (Alumina-Zinc-Oxide) och ITO (Indium-Tin-Oxide). Vi har god erfarenhet inom området och levererar aktivt till projekt för solpaneler, etc.

 

PVD är ett bra alternativ för metallbaserade ytbeläggningar. Under processen bombarderas en platta med joner. Jonerna exciterar atomer från ett sputtering target och skapar en metallisk gas som sedan belägger alla ytor inom en vakuumkammare. På så sätt skapas ett tunt skikt på den yta man önskar belägga. Processen utförs inom högvakuum med temperaturer på 250 – 450°C.

 

PVD är flexibelt på det sätt att man kan skapa varierande tjocklekar på ytskikt mellan ett hundratal nanometer och 15µm. PVD möjliggör användning av en mängd olika ämnen och har även kapaciteten att belägga icke-metalliska isolatorer, plast och keramiska material. Genom PVD kan material erhålla många positiva egenskaper så som t.ex. elektriska, mekaniska, optiska och dekorativa.

 

I kontrast till kemiska och galvaniserade beläggningar är PVD ett miljövänligt alternativ inom ytbehandling. Metoden är ren och innefattar inga skadliga ämnen. Man slipper alltså kemiskt avfall och förorening av färskvatten.